近年來(lái)隨著我國(guó)電子信息、醫(yī)療衛(wèi)生、精細(xì)儀器、航空航天、化工、食品、制藥等行業(yè)的飛速發(fā)展，行業(yè)內(nèi)對(duì)無(wú)塵車間、GMP無(wú)菌車間、潔凈實(shí)驗(yàn)室、層流手術(shù)室等各方面要求也越來(lái)越高，我國(guó)的武漢車間凈化工程正迎來(lái)一個(gè)新的發(fā)展機(jī)遇，市場(chǎng)需求規(guī)模在不斷擴(kuò)大。特別是新版GMP標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)布和醫(yī)療改革的實(shí)施，有力地推動(dòng)了醫(yī)療制造和食品行業(yè)的潔凈需求及醫(yī)療受控環(huán)境的需求，從而推動(dòng)整個(gè)凈化潔凈工程行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模的擴(kuò)大，行業(yè)的蓬勃發(fā)展將會(huì)因市場(chǎng)對(duì)潔凈室、凈化室、無(wú)塵室需求的旺盛得到較長(zhǎng)時(shí)間的維持，行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模的持續(xù)擴(kuò)大為行業(yè)精品品牌企業(yè)提供了巨大的發(fā)展機(jī)遇。

　　二、主要分為以下5類凈化工程需求：

　　1、半導(dǎo)體、芯片、集成電路代表的光學(xué)電子行業(yè)生產(chǎn)的凈化工程需求

　　近年來(lái)國(guó)家大力支持發(fā)展半導(dǎo)體，半導(dǎo)體材料提純作為發(fā)展半導(dǎo)體器件的重要基礎(chǔ)。由于大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高純度的硅材料，原料和中間媒介的高純度和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個(gè)突出問(wèn)題。芯片從上世紀(jì)五十年代發(fā)展至今，在國(guó)內(nèi)的市場(chǎng)和國(guó)際市場(chǎng)占據(jù)著很大的份額，現(xiàn)如今中國(guó)已成為全球半導(dǎo)體大的市場(chǎng)，在強(qiáng)大的需求和有力的政策推動(dòng)下，芯片的高速發(fā)展已經(jīng)是銳不可當(dāng)。集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關(guān)，而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個(gè)數(shù)有關(guān)。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對(duì)空氣中控制粒子的尺寸有較高的要求，而且也需進(jìn)一步控制粒子數(shù)；同時(shí)，對(duì)于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學(xué)污染控制也有相關(guān)的要求。

　　2、精細(xì)儀表機(jī)械和精細(xì)化工產(chǎn)品生產(chǎn)的凈化工程需求

　　隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，許多工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)加工對(duì)生產(chǎn)環(huán)境中的含塵濃度提出較高的要求，這就需要其生產(chǎn)環(huán)境中具有一定的空氣潔凈等級(jí)和控制生產(chǎn)過(guò)程所需各類相關(guān)物質(zhì)的供應(yīng)質(zhì)量。例如，在膠片生產(chǎn)中，膠片若受到了塵埃的污染，將會(huì)發(fā)生乳劑氧化，活性減弱，pH值變化等，從而影響膠片的感光性能。